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安集科技申请化学机械抛光液专利能够有效改善钴表面的腐蚀情况提高钴的去除PG电子app下载速率
发布时间:2024-07-10 05:28 来源:网络

  PG电子金融界2024年6月28日消息,天眼查知识产权信息显示,安集微电子科技(上海)股份有限公司申请一项名为“一种化学机械抛光液及其用途“,公开号CN6.6,申请日期为2022年12月。

  专利摘要显示,本发明提供了一种化学机械抛光液,包括研磨颗粒、腐蚀、络合剂、表面活性剂、氧化剂、pH调节剂和水。本发明中的化学机械抛光液通过添加合适的炔二醇类非离子表面活性剂,能够有效改善钴表面的腐蚀情况,提高钴的去除速率,显著降低钴的静态腐蚀速率,同时不影响钴的去除速率,满足实际抛光应用需求。